二氧化硅超声波清洗机的清洗原理?

来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/04/24 21:07:35

二氧化硅超声波清洗机的清洗原理?
二氧化硅超声波清洗机的清洗原理?

二氧化硅超声波清洗机的清洗原理?
是通过超声波高频产生的“气化现象”的冲击和系统自身不停地作上下运动,增加了液体的摩擦,从而使工件表面的污垢能够迅速脱落,实现其高清洁度的目的；有效去除二氧化硅表面污物的清洗系统,采用了最新IGBT控制模式、触摸屏操作模式,扫频输出,功率可调超声波清洗技术,使超声波输出更均匀、清洗效率更高、范围更宽、清洗效果更加彻底.整个清洗工艺由人工操作完成,共有5个清洗工位、1个离心甩干工位.

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